КОНСУЛЬТАНТ СТУДЕНТА

Электронная библиотека медицинского колледжа

Индуктивные источники высокоплотной плазмы и их технологические применения

Для каталогаБерлин Е.В., Индуктивные источники высокоплотной плазмы и их технологические применения [Электронный ресурс] / Берлин Е.В., Григорьев В.Ю., Сейдман Л.А. - М. : Техносфера, 2018. - 464 с. - ISBN 978-5-94836-519-0 - Режим доступа: http://www.medcollegelib.ru/book/ISBN9785948365190.html
АвторыБерлин Е.В., Григорьев В.Ю., Сейдман Л.А.
ИздательствоТехносфера
Год издания2018
ПрототипЭлектронное издание на основе: Индуктивные источники высокоплотной плазмы и их технологические применения Москва: ТЕХНОСФЕРА, 2018. - 464с. - ISBN 978-5-94836-519-0.
Озвучить текст
Аннотация
Тенденции развития современной технологии электронной техники заключаются в увеличении степени интеграции изделий на поверхности подложек, что связано как с увеличением диаметра применяемых в производстве подложек, так и с уменьшением геометрических размеров элементов изделий на их поверхности до 0,01-0,04 мкм. Для технологии изготовления изделий с микро- и наноэлементами использование ВЧ разряда индуктивно связанной плазмы (ICP) как плазмообразующего источника предоставляет большие преимущества. В частности, с его помощью достигают высокую плотность плазмы (1011-1012 см-3), минимальный разброс ионов по энергиям (Aei < 5 эВ), относительно низкое рабочее давление (10-2-И0-1 Па) и низкую энергетическую цену иона (30-^80) эВ/ион. Благодаря отсутствию накаливаемых узлов источник ICP обладает большим ресурсом работы с химически активными газами. Особенно важно, что он предоставляет возможность независимого управления энергией и плотностью потока ионов, поступающих на подложку. Успехи в конструировании источников ICP для целей микроэлектроники побудили разработчиков оборудования применить их и в других отраслях, например в азотировании стальных деталей, обработке полимерных пленок и нанесении специальных покрытий методами PVD и PECVD. <br>За последнее десятилетие источники ICP нашли широкое промышленное применение, о котором появилось большое количество новой информации. Поэтому назрела необходимость составления обзора, цель которого - систематизация основных экспериментальных результатов разработки и применения источников ICP. В книге приведено описание принципов действия, особенностей и преимуществ источников ICP и рассмотрены многочисленные варианты конструкций современных источников ICR Приведены также примеры технологических применений описываемых источников для нанесения тонких пленок: в процессах PVD и PECVD. И кроме того, описано формирование плазмохимическим травлением трехмерных структур в различных материалах и двумерных структур в тонких пленках и связанное с такой обработкой существенное изменение свойств поверхностей различных материалов, в особенности полупроводников. <br>Таким образом, настоящая книга представляет собой подробное справочное руководство по конструкциям и применению источников ICR Книга рассчитана на студентов, аспирантов, конструкторов нового технологического оборудования, использующего источники ICR и технологов, работающих на таком оборудовании. Конструкторы найдут в ней обзор способов достижения высоких параметров источников ICP, а технологи ознакомятся с широким спектром их применения и полученных с их помощью достижений. Она также будет полезна в качестве учебного пособия для студентов старших курсов и аспирантов соответствующих специализаций.
Загружено 2019-10-22 02:53:09